Křemíkové vrstvy pro výrobu integrovaných obvodů standardními litografických technikami musíme připravit v superčistém prostředí, které je však velmi nákladné udržovat. Tým Masahiro Furusawy z Seiko Epson Corporation vyvinul úplně novou technologii, která se podobá běžné ink-jetové tiskárně. Pomocí trysky pokrývají podložku velmi viskosním roztokem cyklopentasilanu v organickém rozpouštědle. Cyklopentasilan je sloučenina, která obsahuje pět atomů křemíků navzájem spojených do kruhu. Dále obsahuje již jen vodíkové atomy. Po vytištění požadovaných struktur je pak stačí zahřát na 500 stupňů Celsia v inertním prostředí, aby nedošlo k oxidaci. Vzniknou pak vrstvy z čistého křemíku, ze kterých můžeme dále vyrábět integrované obvody.
Na integrované obvody nově
13.4.2006